TY  - RPRT
TI  - Growth and properties of strained VOx thin films with controlled stoichiometry
AU  - A. D. Rata
AU  - A. R. Chezan
AU  - T. Hibma
AU  - M. W. Haverkort
AU  - L. H. Tjeng
AU  - H. H. Hsieh
AU  - H. J. Lin
AU  - C. T. Chen
PY  - 2003
DO  - 10.1103/physrevb.69.075404
UR  - https://arxiv.org/abs/cond-mat/0301263
ID  - cond-mat/0301263
ER  -